High-Power MF Magnetron sputtervoeding

Specificatie

Kenmerken

◆ De hoogvermogen MF magnetron sputtering stroombron kan de functie van boogblusing redelijk en snel implementeren op basis van het volledig voldoen aan de vermogensvereisten. En de voeding heeft perfecte weergave- en beschermingsmogelijkheden van onder spanning, overspanning, overbelasting, oververhitting, enz. Het kan ook niet-geleidende doelen spuiten en de ionisatiesnelheid verhogen om doelwitvergiftiging en abnormale ontlading effectief te overwinnen.

◆   De voeding gebruikt geavanceerde hoogfrequente inverter-voedingstechnologie en IGBT-vermogensmodule om het output-energieopslagelement te verminderen, waardoor de coatinglaag extreem dicht en glad is.

◆   Met behulp van de microcontroller met aanraakscherm is de voeding sterk geïntegreerd en krachtig met eenvoudige bediening. De weergave van stroom en spanning is zeer duidelijk en intuïtief.

◆   De PHP-boogonderdrukkingstechnologie zorgt ervoor dat gebruikers de kwaliteit van de coatinglaag gemakkelijker kunnen regelen tijdens het oppervlaktebehandelingsproces. Ook met de kenmerken van spanningsstabilisatie en ideale coup de foue, kan de voeding effectief de vonkontlading op het oppervlak van het werkstuk belemmeren, en de productieopbrengst aanzienlijk verbeteren, evenals de oppervlaktefijnheid en filmhechting van plateringsstukken.

◆   De voeding biedt drie modi (constante spanning, constante stroom en constant vermogen) waaruit u kunt kiezen. Vergeleken met de traditionele constante stroommodus, kan de constante vermogensmodus beter de herhaalbaarheid van het coatingproces garanderen.

◆ De voeding kan communiceren met de hostcomputer via de digitale poorten zoals RS232, RS485, WIFI enzovoort, waardoor de besturingsfunctie wordt uitgebreid.

◆   Met een breed scala aan uitgangsvermogen en frequentie kan de voeding voldoen aan de behoeften van verschillende procestoepassingen.

◆   De belangrijkste parameters ervan kunnen binnen een groot bereik worden aangepast.

Toepassing

Hoogvermogen MF magnetron sputtering stroombron wordt veel gebruikt in plasma, fysische, chemische, medische en diverse wetenschappelijke onderzoeksgebieden, het kan voldoen aan een breed scala aan procesvereisten, vooral in vacuüm coatingapparatuur.

Prestatievergelijking in vergelijking met de 30 kW MF Magnetron sputtervoeding

Voordelen van de High Power MF Magnetron Sputtering Power Source EP125A80H

◆   Hoog ruimtegebruik van oven

EP125A80H vereist minder intermediaire frequentiedoelen en zorgt voor een hoger gebruik van de oven en een betere productiecapaciteit.

◆ Uitstekende boogonderdrukkingstechnologie

EP125A80H keurt PHP boogonderdrukkingstechnologie goed, zodat gebruikers gemakkelijk de kwaliteit van de film in het proces van oppervlaktebehandeling kunnen regelen om een betere filmstructuur te krijgen.

◆ Goede compatibiliteit

Gebruikers kunnen de bestaande magnetronsputtervoedingsbron rechtstreeks vervangen door EP125A80H en hoeven alleen het koelsysteem te vervangen in plaats van de kathodematerialen en magnetische velden te vervangen.

◆   Hoge verhouding tussen vermogen en volume

Hoge power-to-volume ratio maakt de integratie van apparatuurinstallatie gemakkelijker voor gebruikers.

Verpakking: 1. Houten kist

2. doos

3. Als uw verzoek

Betaling: T / T, L / C, enz.

Levertijd: normaal 15 ~ 20 dagen na betaling

Verzending: door de lucht of over zee

Populaire tags: high-power mf magnetron sputterende voeding, China, fabrikanten, leveranciers, kopen, aangepast, gemaakt in China