Atomaire laag Chemical Vapour Deposition (ALCVD)
Nov 15, 2022| Atomaire laag Chemical Vapour Deposition (ALCVD)
ALD is een methode waarbij een stof laag voor laag op een substraat kan worden gedeponeerd in de vorm van een enkele atomaire film. Afzetting van atoomlagen is vergelijkbaar met gewone chemische afzetting. Maar tijdens het afzettingsproces van atomaire lagen is de chemische reactie van de nieuwe atomaire film direct gerelateerd aan de vorige, op een zodanige manier dat er slechts één laag atomen tegelijk wordt afgezet. Vanwege de zelfbeperking en complementariteit van atomaire laag chemische dampafzetting (CVD), heeft deze techniek een uitstekende controle over de samenstelling en dikte van de films, en de bereide films hebben een goede vervormbaarheid, hoge zuiverheid en uniformiteit. De beïnvloedende factoren van filmvorming zijn als volgt: (1) In het ALD-proces zijn er gewoonlijk twee verschillende afzettingsfasen: initiële afzetting en daaropvolgende groei. De groeimodi van de film zijn respectievelijk eilandgroei en laaggroei, waarbij de initiële afzettingsfase een niet te verwaarlozen invloed heeft op de filmmorfologie. (2) De resultaten laten zien dat de ruwheid van de film wordt beïnvloed door de temperatuur van de voorloper, de mate van vacuüm van de reactiekamer, de substraattemperatuur en andere factoren. Substraattemperatuur heeft het meest significante effect op de initiële depositietijd en groeisnelheid. In het temperatuurvenster geldt: hoe lager de substraattemperatuur, hoe langzamer de film groeit, hoe langer de initiële afzettingstijd is en hoe groter de oppervlakteruwheid. Met de toename van de substraattemperatuur is het initiële afzettingsproces korter en wordt de film snel gesloten. Hoe hoger de temperatuur, de groeisnelheid ligt dichter bij de monomoleculaire cyclus en de oppervlakteruwheid is kleiner.
IKS PVD-bedrijf, decoratieve coatingmachine, gereedschapscoatingmachine, DLC-coatingmachine, optische coatingmachine, PVD-vacuümcoatinglijn, het turn-key project is beschikbaar. Neem nu contact met ons op, e-mail:iks.pvd@foxmail.com