Elektronenstraal hoofdverwerkingsapparaat

Elektronenstraal hoofdverwerkingsapparaat

Elektronenstraalverwerkingsapparaat bestaat hoofdzakelijk uit de volgende onderdelen:

E lectron gun

Een apparaat voor het verkrijgen van een elektronenstraal, inclusief:
1. Elektronenemissiekathode - gemaakt van wolfraam of tantaal en emitterende elektronen onder verwarmingsomstandigheden.
2, controle van de poort - niet alleen controle van de sterkte van de elektronenstraal, maar hebben ook een primair focusseereffect.
3. Versnelde anode - meestal geaard en omdat de kathode een hoge negatieve druk heeft, kan deze elektronen aandrijven om te versnellen.

Vacuüm systeem

Zorg voor het vereiste vacuüm voor elektronische verwerking. De vacuümgraad van de algemene elektronenstraalverwerking wordt op 1,33 x 10-2 ~ 1,33 x 10-4 Pa gehouden.

Besturingssysteem en voeding

Het besturingssysteem omvat straalfocusregeling, straalpositiecontrole, straalsterktecontrole en tafelverplaatsingsregeling.
Beam focus control: verhoogt de energiedichtheid van de elektronenstraal, die de opening of naadbreedte van het bewerkingspunt bepaalt.
Focusmethode: eerst wordt een hoogspannings elektrostatisch veld gebruikt om de elektronenstroom in een fijne straal te focussen; Een andere methode is om een "elektromagnetische lens" te gebruiken om te focussen op een magnetisch veld.

Straalpositieregeling: verandert de richting van elektronen.
Tabel verplaatsing controle: controle van de positie van de tafel tijdens het bewerken.
Voeding: vereisten voor hoogspanningsstabiliteit, gewoonlijk gebruikt om de voeding te stabiliseren.

IKS PVD Electron beam optische coating machine, IKS-OPT2700, Meer details, welkom contact iks.pvd@foxmail.com