PVD-technologie vier processtappen

PVD-technologie vier processtappen (1) het werkstuk reinigen: zet de gelijkstroomvoeding aan, argon-gloeiontlading als argon-ion, argon-ionenbombardement op het werkstukoppervlak, oppervlaktedeeltjes en vuile delen van het werkstuk werden weggegooid; (2) de vergassing van het bekledingsmateriaal: dat wil zeggen na de introductie van wisselstroom de verdamping van het bekledingsmateriaal. (3) migratie van ionen van bekledingsmateriaal: na de botsing en het hoogspanningselektrische veld haastten de atomen, moleculen of ionen van de vergassingsbron zich met hoge snelheid naar het werkstuk; (4) plateren van materiaalatomen, moleculen of ionen worden op het substraat afgezet: wanneer de ionen van het verdampingsmateriaal op het oppervlak van het werkstuk het aantal gemorste ionen overschrijden, hopen ze zich geleidelijk op tot een laag coating die stevig aan het oppervlak van de werkstuk. Na deeltjesionisatie van ionenbeplating heeft het verdampingsmateriaal drieduizend tot de kinetische energie van vijfduizend elektronvolt, hoge snelheid bombardementartefacten, niet alleen de afzetsnelheid is snel en kan het oppervlak penetreren, waardoor een diep in de matrix diffusielaag ontstaat , de diffusiediepte van de interface van ionenbeplating zou vier tot vijf micron zijn, dat wil zeggen dan de gewone diffusiediepte van de vacuümbekleding tientallen keren, zelfs honderd keer, en zo snel aan elkaar gehecht.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd , PVD vacuüm coating machinefabrikant uit China, ons belangrijkste product: decoratieve coating mahcine, gereedschap coating machine, optische coating machine, PVD coating lijn. Meer details, contact: iks.pvd@foxmail. com