Het actieproces van ionenplateren

Het proces van ionenplateren is als volgt: de verdampingsbron verbindt de anode, het werkstuk verbindt de kathode, wanneer verbonden met drie- tot vijfduizend volt hoogspanning dc, produceren de verdampingsbron en het werkstuk een glimontlading. Door het inerte argongas in de vacuümafdekking wordt een deel van het argongas geïoniseerd onder inwerking van een elektrisch ontladingsveld, waardoor een plasma-donker gebied rond het kathodewerkstuk wordt gevormd. Aangetrokken door de hoge druk van de negatieve kathode, bombardeert het positief geladen argon-ion het oppervlak van het werkstuk hevig, waardoor de oppervlaktedeeltjes en het vuil van het werkstuk naar buiten spatten, zodat het oppervlak van het te bedekken werkstuk volledig wordt gereinigd door ionen bombardement. Vervolgens wordt de wisselstroomvoeding van de verdampingsbron ingeschakeld en de deeltjes van het verdampingsmateriaal smelten en verdampen, komen in het glimontladingsgebied en worden geïoniseerd. De positief geladen verdampingsmateriaalionen, onder de kathodeaantrekkelijkheid, haasten zich samen met argonionen naar het werkstuk. Wanneer de op het oppervlak van het werkstuk afgezette ionen van verdampingsmateriaal het aantal gemorste ionen overschrijden, hopen ze zich geleidelijk op tot een laag coating die stevig aan het oppervlak van het werkstuk is gehecht. Dit is het eenvoudige proces van ionenplateren.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd , PVD vacuüm coating machinefabrikant uit China, ons belangrijkste product: decoratieve coating mahcine, gereedschap coating machine, optische coating machine, PVD coating lijn. Meer details, contact: iks.pvd@foxmail. com