Vergelijking van DC-bias en pulsbias
Aug 14, 2024| Vergelijking van DC-bias en pulsbias
Bij traditionele boogionenplating wordt een negatieve DC-voorspanning op het substraat toegepast om de energie van het ionenbombardement te regelen. Dit depositieproces heeft de volgende nadelen: 1. De hoge temperatuur van het substraat is niet bevorderlijk voor het afzetten van een harde film op het substraat met een lage tempertemperatuur. 2. 3. Ionenbombardement met hoge energie veroorzaakt ernstig sputteren, en harde films met een hoge reactiedrempelenergie kunnen niet eenvoudigweg worden gesynthetiseerd door de energie van het ionenbombardement te verhogen. 4. Om de overmatige substraattemperatuur veroorzaakt door het voortdurende bombardement van positieve ionen op het substraatoppervlak te beperken, worden bij het DC-voorspanningsboogionenplatingsproces voornamelijk maatregelen genomen zoals het verminderen van het depositievermogen, het verkorten van de depositietijd en het toepassen van intermitterende depositiemethoden. om de depositietemperatuur te verlagen. Deze maatregelen kunnen worden samengevat als energiebeheersingsmethoden. Hoewel deze methode de afzettingstemperatuur kan verlagen, vermindert deze ook enkele eigenschappen van de film en vermindert ook de productie-efficiëntie en de stabiliteit van de filmkwaliteit, waardoor het moeilijk is om de toepassing te bevorderen. Bij het gepulseerde boogionenplateringsproces kan, omdat ionen in een niet-continue pulsmodus door het substraatoppervlak worden gebombardeerd, de temperatuurgradiënt tussen het substraat en het oppervlak worden gewijzigd door de werkcyclus van de pulsvoorspanning aan te passen, en vervolgens de het warmte-egalisatie-compensatie-effect tussen het substraat en het oppervlak kan worden gewijzigd om het doel van het reguleren van de afzettingstemperatuur te bereiken. Op deze manier kan de hoogte van de voorgespannen puls onafhankelijk worden gescheiden van de temperatuur van het werkstuk (hebben geen invloed op elkaar of hebben weinig invloed), en de hoogspanningspuls kan worden gebruikt om het bombardementseffect van hoogenergetische ionen te verkrijgen om de organisatie en prestatie van de film, en het totale verwarmingseffect van ionenbombardement kunnen worden verminderd door de werkcyclus te verlagen om de afzettingstemperatuur te verlagen.
IKS PVD-bedrijf, decoratieve coatingmachine, gereedschapscoatingmachine, DLC-coatingmachine, optische coatingmachine, PVD-vacuümcoatinglijn, het turn-key project is beschikbaar. Neem nu contact met ons op, e-mail: iks.pvd@foxmail.com