HiPIMS technologieoverzicht
Jun 21, 2018| Magnetron sputtertechnologie wordt veel gebruikt op het gebied van de bereiding van dunne films. De toepassingen van decoratieve coating en coating van gereedschap zijn relatief gebruikelijk.
De magnetron sputterverwerkingstechnologie heeft echter vele beperkingen. Wanneer de sputterstroom bijvoorbeeld groot is, wat betekent dat de vermogensdichtheid van een magnetronsputterdoel wordt beperkt door de beoogde warmtebelasting, kan bombardement van het doelwit met overmatige positieve ionen veroorzaken dat het sputterdoel beweegt oververhit en verbrandt. Bovendien heeft het ook de nadelen van beperkte sputterenergie en lage metaalionisatiesnelheid.
In de afgelopen jaren is een krachtige gepulseerde magnetronsputtertechnologie (HiPIMS) ontwikkeld in binnen- en buitenland en deze beperking is sterk verzwakt. Het piekvermogen van hoogvermogen gepulst magnetron sputteren is ongeveer 100 maal dat van gewone magnetron sputtering. De ionisatiesnelheid van gesputterd materiaal is extreem hoog en deze sterk geïoniseerde straal bevat geen grote deeltjes. Hoogwaardige film kan dus eenvoudig worden verkregen met HiPIMS-technologie.
Aangezien de pulsactietijd binnen enkele honderden microseconden ligt, is het gemiddelde vermogen van HiPIMS vergelijkbaar met dat van gewone magnetronsputteren, zodat de vereiste voor magnetrondoelwitkoeling niet wordt verhoogd. Hoewel het momentane vermogen van hoogvermogen gepulst magnetron sputteren hoog is, is het gemiddelde vermogen niet hoog, zodat het op grote schaal kan worden gebruikt.