Ion-plating
Dec 27, 2017| Ion-plating (IP) is een fysisch dampdepositie (PVD) -proces dat soms ion-assisted deposition (IAD) of ionendampdepositie (IVD) wordt genoemd en een versie van vacuümdepositie is. Ion-plating maakt gebruik van gelijktijdig of periodiek bombarderen van het substraat en zet film af door atomische energetische deeltjes. Bombardement voorafgaand aan afzetting wordt gebruikt om het substraatoppervlak te sputteren. Tijdens afzetting wordt het bombardement gebruikt om de eigenschappen van de afzetfilm te modificeren en regelen. Het is belangrijk dat het bombardement continu is tussen de reinigings- en de afzettingsgedeelten van het proces om een atomisch schone interface te handhaven.
Bij ionenplattering zijn de energie, flux en massa van de beschietende soort, samen met de verhouding van bombardeerdeeltjes tot afzettingsdeeltjes belangrijke verwerkingsvariabelen. Het afzetmateriaal kan worden verdampt hetzij door verdamping, sputteren (voorgespannen sputteren), boogverdamping of door ontleding van een chemische dampvoorloper chemische dampafzetting (CVD). De energetische deeltjes die worden gebruikt voor bombardement zijn meestal ionen van een inert of reactief gas, of in sommige gevallen ionen van het condenserende filmmateriaal ("filmionen"). Ion-plating kan worden gedaan in een plasma-omgeving waar ionen voor bombardement worden geëxtraheerd uit het plasma of het kan worden gedaan in een vacuümomgeving waar ionen voor bombardement worden gevormd in een afzonderlijk ionenkanon. De laatste ion-plateringsconfiguratie wordt vaak Ion Beam Assisted Deposition (IBAD) genoemd. Door een reactief gas of damp in het plasma te gebruiken, kunnen films van samengestelde materialen worden afgezet.
Ion-plating wordt gebruikt voor het aanbrengen van harde coatings van samengestelde materialen op gereedschappen, hechtende metalen coatings, optische coatings met hoge dichtheden en conforme coatings op complexe oppervlakken.
Het ion-plating-proces werd voor het eerst beschreven in de technische literatuur door Donald M. Mattox van Sandia National Laboratories (SNL) in 1964. [1]
