Ti (titanium) doelmateriaal

Ti(titanium) doelmateriaal

Titanium is een van de meest gebruikte barrièrefilmmaterialen (het overeenkomstige geleidende laagmateriaal is aluminium) in VLSI-chips. Het titanium doelwit zal worden gebruikt in combinatie met de titanium ring tijdens het fabricageproces van de prechip. De belangrijkste functie is om het titaniumdoel te helpen bij het voltooien van het sputterproces, dat voornamelijk wordt gebruikt op het gebied van de fabricage van ultragrote geïntegreerde schakelingen.
Tantaal doel
Met de explosieve groei van de vraag naar consumentenelektronica zoals

smartphones en tablets is de vraag naar high-end chips aanzienlijk toegenomen, waardoor tantaalmetaal een hete minerale hulpbron is geworden. De schaarste aan tantaalbronnen maakt het zeer zuivere tantaal-doelmateriaal echter duur, dat voornamelijk wordt toegepast in grootschalige geïntegreerde schakelingen en andere gebieden.

IKS PVD-bedrijf, decoratieve coatingmachine, gereedschapscoatingmachine, DLC-coatingmachine, optische coatingmachine, PVD-vacuümcoatinglijn, het turn-key project is beschikbaar. Neem nu contact met ons op, e-mail: iks.pvd@foxmail.com