Vacuüm coating methode en materiaal
Jun 28, 2021| Vacuüm coating methode en materiaal
(1) Vacuümverdamping: het te coaten substraat wordt gereinigd en in de coatingkamer geplaatst. Na evacuatie wordt het filmmateriaal verwarmd tot een hoge temperatuur, zodat de damp ongeveer 13,3Pa bereikt en de dampmoleculen naar het oppervlak van het substraat vliegen en condenseren in de film.(2) Kathode sputteren plating: Zal moeten coating matrix op de kathode tegenover, toegang tot de inerte gas zoals argon) moet binnen, om de druk is ongeveer 1,33 ~ 13,3 Pa, de kathode kan dan worden aangesloten op 2000 v dc voeding, en stimuleren van de gloed ontlading, positief geladen argon-ion impact kathode, de injectie atomen , sputteren uit atomen door het membraan wordt gevormd op de inerte atmosfeer naar het substraat.
(3) Chemische dampdepositie: een proces van depositie van dunne films door thermische afbraak van geselecteerde metaal- of organische verbindingen.
(4) ionenplating: ionenplating is in wezen een organische combinatie van vacuümverdamping en kathodesputteren en heeft de proceskenmerken van beide.
IKS PVD bedrijf, decoratieve coating machine, gereedschap coating machine, optische coating machine, PVD vacuüm coating lijn, is het turn-key project beschikbaar. Neem nu contact met ons op, e-mail:iks.pvd@foxmail.com
