Kenmerken van PVD Nanocoatings
May 22, 2019| Kenmerken van PVD nanocoatings
Er zijn drie basismethoden voor fysische dampdepositie van nanocoatings: vacuümverdamping, sputteren en ionenafzetting. Vacuumverdamping is om het bronmateriaal te verdampen in deeltjes (atomen of ionen) door middel van elektronenbundelverwarming, laserverwarming, enz., en leg ze vervolgens op het oppervlak van het werkstuk om een coating te vormen. De coating heeft relatief meer poriën, die een algemene hechting met het substraat heeft. Sputterplating neemt het werkstuk als de anode en het doelwit als de kathode. Het argon-ion gegenereerd door argon-ionisatie wordt gebruikt om de doelatomen uit te blazen en ze af te zetten op het oppervlak van het werkstuk. De coating heeft minder poriën en wordt goed gecombineerd met het substraat. Ion plating is om het materiaal in atomen te maken door verdamping, sputteren of chemische methoden en worden geïoniseerd door het plasma rond het substraat. Onder invloed van het elektrische veld wordt de coating gevormd door met grotere kinetische energie naar het substraat te vliegen. De coating is uniform en dicht, met in principe geen poriën, en goed gecombineerd met het substraat.
Titaniumoxide nanofilms werden bereid door DC magnetron sputteren. De sputterkamer druk werd gepompt tot 1,3 10-4pa, en dan gevuld met Ar, O2 en CF4, de totale druk was 1,3pa (de hoeveelheid injectie werd geregeld tijdens sputteren). De dikte van de film is onder een constante sputterspanning (700 v) om de regelsputtercondities, de sputtertijd en de temperatuur van de basisplaat in 100 - 400 ℃ te veranderen . Elektrochrome eigenschappen werden gevonden in LiC1O4 en propyleencarbonaat. Het filmoppervlak wordt echter beïnvloed door gas en geladen deeltjes, en de prestaties van de film worden sterk beïnvloed door de plasmastatus en de sputtertoestand is niet gemakkelijk om strikt te worden gecontroleerd, wat ook zijn grootste nadeel is.
Om de kwaliteit van nano-coating verder te verbeteren, zijn verschillende geavanceerde PVD-technologieën ontwikkeld en afgeleid door de combinatie van verschillende technologieën. Verschillende magnetronsputtertechnieken zijn ontwikkeld door het introduceren van een magnetisch veld in de sputtertechniek die wordt gedomineerd door een elektrisch veld. Om het chemische proces van filmvorming te versterken, werd reactief gas geïntroduceerd in het proces van verdamping, sputteren en ionenplattering, waardoor reactieve verdampingstechnologie, reactieve sputtertechnologie en reactieve ion-platingtechnologie ontstonden. Daarnaast zijn er pulse laser deposition (PLD), magnetron sputtering (MSPLD), ionizedmagnetron sputtering (ionizedmagnetron sputtering), molecular beam epitaxy (MBE), migratiegroei en andere nieuwe membraantechnologie.
Het is duidelijk dat met de ontwikkeling van wetenschap en technologie, de grens tussen CVD en PVD niet duidelijk is en de twee elkaar doordringen, waardoor de twee coatingspreparentechnologieën meer perfect zijn.
IKS PVD, decoratieve coatingmachine, gereedschappencoatingmachine, contact: iks.pvd@foxmail.com
