Algemene Probleemoplossing van Magnetron Sputterfilm

De film is grijs en donker

1. De mate van vacuüm is lager dan 0,67 Pa. De mate van vacuüm moet worden verhoogd tot 0,13-0,4 Pa.

2. De zuiverheid van argon is minder dan 99,9%. Plaese gebruikt argon met een zuiverheid van 99,99%.

3. Opblaasbare systeemlekken. Het opblaassysteem moet worden gecontroleerd om lekkage te voorkomen.

4. Primer is niet volledig uitgehard. De uithardingstijd van de primer moet op passende wijze worden verlengd.

5. De hoeveelheid gas die vrijkomt uit het geplateerde onderdeel is te groot. De kamer moet worden gedroogd en afgesloten

Dim en saai oppervlak

1. Sputtertijd is te lang. De tijd moet op de juiste manier worden ingekort.

2. Sputter- en filmvormingssnelheid is te snel. Gelieve op de juiste manier de sputterstroom of -spanning te verminderen.

Ongelijke kleur van de coating

1. De film is te dun. Verhoog aub de sputtersnelheid of sputtertijd.

2. Irrationeel armatuurontwerp. Het armatuurontwerp moet worden verbeterd.

3. De geometrie van het substraat is te gecompliceerd. Breng de rotatiesnelheid van het substraat naar behoren aan.

Film heeft rimpels of scheuren

1. De verdampingssnelheid is te snel. Het zou behoorlijk moeten worden vertraagd.

2. De film is te dik. Sputtertijd moet op passende wijze worden verkort.

3. De temperatuur van het substraat is te hoog. Kort de verwarmingstijd van het substraat in.

Het filmoppervlak heeft watersporen, vingerafdrukken en roetdeeltjes

1. Het substraat is na het reinigen niet voldoende gedroogd. De voorbehandeling moet worden versterkt.

2. Het oppervlak van het substraat wordt bespat met water of speeksel. Operators moeten maskers dragen.

Slechte hechting

1. Slechte ontvetting van beplatingsdelen. De voorbehandeling moet worden versterkt.

2. De vacuümkamer is niet schoon. De vacuümkamer moet worden schoongemaakt. Houd er rekening mee dat tijdens het laden en ontladen van doelen, het ten strengste verboden is om handen of ander onrein voorwerp te gebruiken, is om de magnetronbron aan te raken.

3. Het armatuur is niet schoon. Het armatuur moet worden schoongemaakt.

4. Ongepaste controle van de condities van het sputterproces. Verbeter de voorwaarden van het sputterproces.